仪器名称

X 射线光电子能谱仪 （XPS）

设备用途

主要用于材料表面除H、He 元素以外所有元素的定性、半定量及其化学状态的表征

技术指标

1. UHV 5×10-10 mbar

2. Micro-focused Monochromatic Al Kα XPS 

Energy resolution: < 0.45 eV, Sensitivity: 400 kcps @ 0.5 eV FWHM

Analysis area: 900 μm-20 μm, X-Ray Photoelectron Imaging < 3 µm

3. High Pressure Gas Cell

Temp.: from r.t. to 600 ℃

Pressure: up to 20 bar

4. More Techniques: Al/ Mg dual anode, Depth profile XPS, Angle Resolved XPS, XPS imaging, AES, UPS, ISS, REELS

测试项目/价格

面议